新聞中心
當(dāng)前位置:首頁(yè) > 新聞資訊
春風(fēng)暖日之際,由中國(guó)硅酸鹽協(xié)會(huì),中國(guó)日用玻璃協(xié)會(huì),上海市硅酸鹽協(xié)會(huì),東華大學(xué),先進(jìn)玻璃制造技術(shù)教育部工程研究中心,中國(guó)輕工業(yè)特種玻璃及搪瓷重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室共同舉辦,于2024.4.22-4.24在上海松江大學(xué)城東華大學(xué)的圖文信息中心隆重舉行,在本次以《雙碳新時(shí)代:玻璃的機(jī)遇與再生》為主題的第11屆先進(jìn)玻璃國(guó)際會(huì)議上,我公司受邀作為玻璃相關(guān)材料及裝備的供應(yīng)商參加了此次會(huì)議,展示了公司代理的科晶集團(tuán)(沈陽(yáng)科...
金屬熱處理工藝是提升金屬材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),而真空管式爐在這一領(lǐng)域扮演著舉足輕重的角色。其結(jié)構(gòu)和加熱方式,使得金屬熱處理在精度、效率和質(zhì)量上得到了顯著提升。1、更大優(yōu)勢(shì)在于其提供了一個(gè)真空的加熱環(huán)境。在真空狀態(tài)下,金屬表面不會(huì)與氧氣、水蒸氣等發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而避免了氧化和脫碳現(xiàn)象的發(fā)生。這對(duì)于需要保持金屬純凈度和表面光潔度的熱處理工藝來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。在不銹鋼的熱處理中,能夠有效防止不銹鋼表面產(chǎn)生氧化層,確保其耐腐蝕性能不受影響。2、加熱效率較高。由于采用了加熱元件和保溫材料,能...
PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積是一種薄膜沉積技術(shù)。它利用等離子體的特殊性質(zhì),在低溫、低壓條件下實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積。一、真空系統(tǒng)PECVD等離子體增強(qiáng)氣相沉積中的真空系統(tǒng)主要包括真空泵、真空室、真空閥等部件。真空泵負(fù)責(zé)將真空室內(nèi)抽至所需的真空度,為化學(xué)反應(yīng)提供低氣壓環(huán)境。真空室則是薄膜沉積的主要場(chǎng)所,內(nèi)部配備有加熱元件和載物臺(tái),用于放置待沉積基片。二、氣體供應(yīng)系統(tǒng)氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括氣瓶、氣體質(zhì)量流量計(jì)、氣體混合器等部件。氣瓶?jī)?nèi)儲(chǔ)存有用于沉積薄膜所需的氣體,如硅烷、氨氣等。氣體質(zhì)...
混合箱式爐作為一種高效、節(jié)能且環(huán)保的新型熱處理設(shè)備,已在多個(gè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。一、設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)高效節(jié)能:采用加熱技術(shù)和保溫材料,使得爐內(nèi)溫度分布均勻,熱量損失小,從而實(shí)現(xiàn)了高效節(jié)能的目標(biāo)。與傳統(tǒng)爐型相比,可大幅降低能耗,提高生產(chǎn)效率。均勻加熱:內(nèi)部采用特殊的加熱元件和結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得爐內(nèi)溫度分布更加均勻。這有助于保證工件在加熱過(guò)程中的均勻受熱,從而提高工件的加熱質(zhì)量和熱處理效果。綠色環(huán)保:采用清潔能源作為加熱源,如電能、天然氣等,避免了傳統(tǒng)燃料爐產(chǎn)生的廢氣、廢渣等污染物。此外,爐內(nèi)...
混合箱式爐,作為一種加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域。其工作原理和顯著的特點(diǎn)使其在眾多加熱設(shè)備中脫穎而出。一、工作原理混合箱式爐采用高效的燃燒系統(tǒng),通過(guò)將燃料與空氣充分混合后點(diǎn)燃,產(chǎn)生高溫?zé)煔?。這些煙氣在爐內(nèi)循環(huán),對(duì)經(jīng)過(guò)爐膛的工件進(jìn)行均勻加熱。同時(shí),爐內(nèi)的熱量通過(guò)輻射、對(duì)流和傳導(dǎo)等多種方式傳遞給工件,確保其均勻受熱。此外,還配備有完善的控制系統(tǒng),可根據(jù)實(shí)際需求調(diào)節(jié)爐溫,滿足不同工藝要求。二、特點(diǎn)節(jié)能環(huán)保:采用燃燒技術(shù)和優(yōu)化的爐體設(shè)計(jì),有效降低了能耗,減少了環(huán)境污染。高效加熱:...
CVD(化學(xué)氣相沉積)是一種重要的薄膜制備技術(shù),通過(guò)將氣態(tài)前驅(qū)體在基底表面化學(xué)反應(yīng),形成固體薄膜的過(guò)程。CVD技術(shù)具有高度可控性和可擴(kuò)展性,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域。下面將詳細(xì)介紹CVD的原理和應(yīng)用。原理CVD的基本原理是利用氣相中的化學(xué)物質(zhì)在基底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成凝聚相的薄膜。其主要過(guò)程包括:1、氣態(tài)前驅(qū)體通過(guò)氣體輸送系統(tǒng)被引入反應(yīng)室。2、前驅(qū)體在基底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成固體薄膜。3、副產(chǎn)物通過(guò)氣體流動(dòng)被帶出反應(yīng)室,以保證純凈薄膜的形成。CVD的反應(yīng)條...
研磨拋光機(jī)在石材加工中具有重要的作用,它可以提高石材的表面質(zhì)量,使其更加光滑、美觀。一、在石材加工中的優(yōu)勢(shì)1.提高表面質(zhì)量:可以有效地去除石材表面的瑕疵和劃痕,提高石材的表面質(zhì)量。經(jīng)過(guò)拋光后的石材表面更加光滑、美觀,具有較高的觀賞價(jià)值和使用價(jià)值。2.提高加工效率:采用自動(dòng)化、機(jī)械化的方式進(jìn)行加工,可以大大提高石材加工的效率。與傳統(tǒng)手工拋光相比,可以大幅縮短加工時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。3.降低勞動(dòng)強(qiáng)度:使用可以減輕石材加工人員的勞動(dòng)強(qiáng)度。傳統(tǒng)手工拋光需要操作人員長(zhǎng)時(shí)間保持相同的姿勢(shì)...
CVD氣相沉積是一種重要的薄膜制備技術(shù),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、化學(xué)傳感等領(lǐng)域。一、工藝原理利用氣體在高溫下分解反應(yīng)產(chǎn)生沉積物的過(guò)程。CVD的基本原理是將一種或多種反應(yīng)氣體送入反應(yīng)室,在高溫下使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)產(chǎn)物并在襯底表面上形成薄膜。CVD反應(yīng)需要滿足以下三個(gè)條件:1)反應(yīng)氣體能夠在高溫下分解或反應(yīng);2)反應(yīng)物質(zhì)與襯底表面有較好的親和力;3)反應(yīng)體系的化學(xué)反應(yīng)符合熱力學(xué)平衡。CVD反應(yīng)可以分為熱解法、氧化還原法、金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法等。其中,熱解法是常見(jiàn)的一種...
真空管式爐是一種用于高溫處理和熱處理材料的設(shè)備。其工作原理是利用真空環(huán)境下的高溫來(lái)改變材料的物理和化學(xué)性質(zhì),從而獲得所需的材料品質(zhì)。通常由一個(gè)獨(dú)立的真空室和一個(gè)加熱器組成。在加熱器內(nèi)部,加熱元件會(huì)將能量傳輸?shù)綐悠分?,將其加熱到所需的溫度。在此過(guò)程中,由于真空環(huán)境,沒(méi)有氣體分子與樣品接觸,因此對(duì)樣品的影響非常小,使其更容易控制和維護(hù)熱處理過(guò)程。真空管式爐廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、半導(dǎo)體、玻璃等材料的生產(chǎn)和研發(fā)領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,可以用于將硅晶片加熱至高溫,以實(shí)現(xiàn)特定的電學(xué)和物...
真空感應(yīng)熔煉爐主要是應(yīng)用電磁感應(yīng)的作用,在金屬爐料本身產(chǎn)生電流,再依靠金屬爐料本身的電阻,按照焦耳楞次定律,將電能轉(zhuǎn)換為熱能,用以熔煉金屬。真空感應(yīng)熔煉爐的電磁攪拌是如何形成的?坩鍋中的熔融金屬在感應(yīng)圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)中產(chǎn)生電動(dòng)力,由于集膚效應(yīng),熔融金屬產(chǎn)生的渦流與感應(yīng)圈中通過(guò)的電流方向相反,產(chǎn)生相互排斥作用;熔融金屬受到的排斥力始終指向坩鍋的軸線方向,熔融金屬也被推向坩鍋的中心;又由于感應(yīng)圈是短線圈,兩頭有短部效應(yīng),所以在感應(yīng)圈兩頭相應(yīng)電動(dòng)力變小,電動(dòng)力分布為上下兩頭小,中間大在...
研磨拋光機(jī)適用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣,是科學(xué)研究、生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)理想的磨拋設(shè)備之一。本機(jī)設(shè)置了研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位,可用于研磨拋光的平面。在研磨過(guò)程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動(dòng),同時(shí)推動(dòng)載物塊左右擺動(dòng),載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn),使樣品做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng),使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊,使研磨后的樣品表面也具有高的平面度,并且不會(huì)使樣品邊緣倒角,對(duì)邊緣...
真空管式爐為采用高性能高節(jié)能的新型電爐。憑借安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)高、可選配氣氛、抽真空爐型等特點(diǎn),主要運(yùn)用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負(fù)極、新能源、模具等行業(yè)。真空管式爐的爐體結(jié)構(gòu)及用料:爐殼材料:外箱采用優(yōu)質(zhì)冷板經(jīng)磷酸皮膜鹽處理后高溫噴塑,顏色為電腦灰;爐膽材料:采用氧化鋁多晶纖維材料,保溫性能好,耐用,拉伸強(qiáng)度高,耐急冷急熱,節(jié)能高效;隔熱方法:纖維棉毯;測(cè)溫口:熱電偶從爐體下方進(jìn)入;接線柱:發(fā)熱爐絲接線柱位于爐體...
20世紀(jì)60年代以后,CVD法不僅應(yīng)用于宇航工業(yè)的特殊復(fù)合材料、原子反應(yīng)堆材料、刀具、耐熱耐腐蝕涂層等領(lǐng)域,還被應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域,雖然比較晚,但今天作為大規(guī)模集成電路技術(shù)及鐵電材料、絕緣材料、磁性材料的薄膜制備技術(shù),都是*的。CVD法制備薄膜材料是近年來(lái)半導(dǎo)體、大規(guī)模集成電路應(yīng)用較成功的一種工藝方法,主要用于硅、砷化鎵材料的外延生長(zhǎng)、金屬薄膜材料、表面絕緣層、硬化層等,用于一些如氧化物、碳化物、金剛石和類金剛石等功能薄膜和超硬薄膜的沉積,也用于粉末、塊狀材料、纖維等的合成...